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Environmental Science & Technology报道我院新型选择性抗性基因降解技术

时间:2020/03/19

       抗生素的不合理使用导致抗性细菌及抗性基因的大量产生,已经成为全球关注的焦点问题,据估计到2050年将会有每年上千万人因此而死亡。氯和紫外等水处理消毒技术虽然能够较为有效地杀灭抗性细菌,但并没有从根本上消除抗药性风险,因为抗性基因仍然保持活性。然而,氯和紫外等传统消毒技术很容易受水中污染物干扰,不能有效去除抗性基因。因此,发展具有选择性的抗性基因降解技术势在必行。


       我院袁青彬老师和莱斯大学Alvarez J.J. Pedro教授合作,利用分子印迹能够选择性识别污染物的特征,开发了基于DNA分子印迹的抗性基因选择性光降解技术。本项目将DNA分子印迹负载到非金属和环境友好的C3N4光催化材料表面,能够选择性地识别抗性基因,经过紫外光(360nm)降解30min即可降解超过99.9%的抗性基因,在模拟污染物和实际污水中均表现出良好的选择性。此外,负载DNA分子印迹的C3N4还有效地实现抗性基因片段化降解,从而避免了抗性基因的再修复和重新表达。该技术为城市污水等环境中抗药性的控制提供了新思路。

       研究成果已被环境科学类环境科学与工程领域顶级期刊Environmental Science & Technology接收,并于近日在线刊出,我院为第一单位。该研究受国家自然科学基金资助。

论文链接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.est.9b06926


作者:澳门威尼人app平台;审核:张永军



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